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“晶格码工艺过程成像探头系统”参数说明
| 是否有现货： | 是 | 品牌： | 晶格码 |
| 加工定制： | 否 | 类型： | 纳米粒度仪 |
| 测量范围： | 几微米到几毫米 | 测量方式：： | 在线测量晶体形态、平均尺寸、颗粒大小分布 |
| 工作温度：： | -10oC ~ 120 oC | 测量浓度：： | 可高达50%固体颗粒浓度(与颗粒形状相关) |
“晶格码工艺过程成像探头系统”详细介绍
本系统能够实现对颗粒的形貌和尺寸大小做实时的准确测量，进而加深对过程的了解和实现过程的优化控制及放大。除了固体结晶以外，对其他非固体的领域，例如气泡、泡沫、乳状液、液滴、聚合物、流场等刻画也具有极其广泛的应用前景。它适用于生产中对过程的研究，产品开发及其改进。特别适用于监测，优化和控制高颗粒浓度过程及非透明颗粒的生产过程。
技术指标
测量范围：几微米到几毫米(与镜头放大倍数、相机等相关)
测量方式：在线测量晶体形态、平均尺寸、颗粒大小分布
测量浓度：可高达50%固体颗粒浓度(与颗粒形状相关)
工作温度：-10oC ~ 120 oC
性能特征
特殊设计的探头(相机/镜头/光源)可广泛地适用于许多困难物系（尤其是非透明颗粒物系及高固体浓度）。探头具有耐腐蚀性，能够对pH值1~12范围内的样品进行测量。
由于特殊的光源设计,本系统可有效地防止颗粒沉积/粘结于探头上。
根据不同物系及客户要求,本系统可设计不同方案(包括气体清理系统)。
强大的图像处理功能可实现颗粒多尺度分割, 计算颗粒形状参数 (主元素分析和傅立叶变换)，聚类分析和定量产品/过程控制。
技术指标
测量范围：几微米到几毫米(与镜头放大倍数、相机等相关)
测量方式：在线测量晶体形态、平均尺寸、颗粒大小分布
测量浓度：可高达50%固体颗粒浓度(与颗粒形状相关)
工作温度：-10oC ~ 120 oC
性能特征
特殊设计的探头(相机/镜头/光源)可广泛地适用于许多困难物系（尤其是非透明颗粒物系及高固体浓度）。探头具有耐腐蚀性，能够对pH值1~12范围内的样品进行测量。
由于特殊的光源设计,本系统可有效地防止颗粒沉积/粘结于探头上。
根据不同物系及客户要求,本系统可设计不同方案(包括气体清理系统)。
强大的图像处理功能可实现颗粒多尺度分割, 计算颗粒形状参数 (主元素分析和傅立叶变换)，聚类分析和定量产品/过程控制。
